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【產品介紹】
一、產品名稱:納米碳酸鈣分散機,納米碳酸鈣研磨分散機,納米碳酸鈣分散設備,碳酸鈣分散機,超細分散機,納米分散機
二、納米碳酸鈣簡介
納米碳酸鈣又稱超微細碳酸鈣。標準的名稱即超細碳酸鈣。納米碳酸鈣應用成熟的行業是塑料工業主要應用于高檔塑料制品。可改善塑料母料的流變性,提高其成型性。用作塑料填料具有增韌補強的作用,提高塑料的彎曲強度和彎曲彈性模量,熱變形溫度和尺寸穩定性,同時還賦予塑料滯熱性。納米碳酸鈣用于油墨產品中體現出了優異的分散性和透明性和*的光澤、及優異的油墨吸收性和高干燥性。納米碳酸鈣在樹脂型油墨中作油墨填料,具有穩定性好,光澤度高,不影響印刷油墨的干燥性能.適應性強等優點。
三、納米碳酸鈣的分散難點
納米碳酸鈣分散到水中或者溶劑當中,容易出現抱團的現象,導致物料粒徑變大,分散效果不佳,產品改性不充分。如果使用普通的分散設備,很難將納米碳酸鈣分散均勻,會出現團聚的現象,團聚體難以打開,而如果采用CIK新研發的分散設備,研磨分散機的話,先研磨后分散機,解決團聚問題,可達納米碳酸鈣還原至納米級。
四、CIK納米碳酸鈣分散設備簡介
CIK研磨式分散機,是由膠體磨+分散機結合而成的設備,主要是為了解決納米級物料的分散,如:納米碳酸鈣、納米氫氧化鎂、納米氧化鋁、石墨烯、碳納米管等納米級物料的分散。
CDL2000系列研磨分散設備是CIK(上海)公司經過研究剛剛研發出來的一款新型產品,該機特別適合于需要研磨分散乳化均質一步到位的物料。我們將三級高剪切均質乳化機進行改裝,我們將三級變跟為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經過膠體磨細化物料,然后再經過乳化機將物料分散乳化均質。膠體磨可根據物料要求進行更換(我們提供了2P,2G,4M,4P,6F,8SF等六種乳化頭供客戶選擇)
五、CDL2000系列納米碳酸鈣分散機的特點:
① 線速度很高,剪切間隙非常小,當物料經過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說的濕磨
② 定轉子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。
③ 定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。
④ 在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
⑤ 高質量的表面拋光和結構材料,可以滿足不同行業的多種要求。
產品選型表:
型號 | zui大處理量 L/H | 輸出轉速 rpm | 標準線速度 m/s | 馬達功率 KW | 進出口尺寸 |
CDL2000/4 | 300-1000 | 9,000 | 23 | 2,.2 | DN25/DN15 |
CDL2000/5 | 3,000 | 6,000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
CDL2000/10 | 8,000 | 4,200 | 23 | 15 | DN50/DN50 |
CDL2000/20 | 20,000 | 3,000 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
CDL2000/30 | 40,000 | 1,500 | 23 | 37 | DN150/DN125 |
CDL2000/40 | 70,000 | 1,500 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
CDL2000/50 | 125,000 | 1,100 | 23 | 110 | DN200/DN150
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1 表中上限處理量是指介質為“水”的測定數據。
2 處理量取決于物料的粘度,稠度和zui終產品的要求。
3 如高溫,高壓,易燃易爆,腐蝕性等工況,必須提供準確的參數,以便選型和定制。
4 本表的數據因技術改動,定制而不符,正確的參數以提供的實物為準。
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